Puffer für Zirkonoxid-Keramikführungsschienen von Halbleiteranlagen
Der Puffer für Führungsschienen aus Zirkonoxidkeramik, hergestellt mithilfe der keramischen Pulvermetallurgietechnologie, bietet eine hervorragende Verschleiß- und Korrosionsbeständigkeit. Er ist für die hochpräzise Pufferung von Führungsschienen in Halbleiterfertigungsanlagen konzipiert.
- Material: Zirkonoxidkeramik
- Härte: >1200 HV
- Präzision: ±0.01 mm
- Betriebstemperatur: -40°C bis 200°C
- Anwendung: Lithografiemaschinen für die Halbleiterfertigung, Reinigungsanlagen und Pufferungssysteme für Führungsschienen in Vakuumkammern
Wenn Sie Fragen haben, können Sie sich jederzeit gerne an uns wenden. Wir melden uns so schnell wie möglich bei Ihnen, innerhalb von 24 Stunden an Werktagen und Wochenenden.
Kundensupport
Ihre Zufriedenheit hat für uns höchste Priorität.
Wir bieten umfassenden lebenslangen technischen Support und Garantieleistungen.
Kontaktieren Sie uns
WhatsApp: +86 180 0255 3024
E-Mail: market@mim-supplier.com
Versandinformationen
Wir senden Ihnen Proben normalerweise per DHL, FedEx oder UPS.
Um Versandkosten zu sparen, werden größere Warenmengen auf dem Seeweg versandt.
Häufig gestellte Fragen
Welche Materialien bieten Sie an?
Wir bieten eine breite Palette an Materialien für die Pulvermetallurgie.
MIM: Edelstahl 304, 316, 420, 17-4, Titanlegierungen TC4, TA2, AISI 310S Nickel-Chrom-Eisen-Legierungen
CIM-Verfahren: Zirkonoxid, Aluminiumoxid, Siliziumnitrid, Siliziumkarbid und Aluminiumnitrid
Unser Forschungs- und Entwicklungsteam kann maßgeschneiderte Materialien entwickeln, die Ihre spezifischen Anwendungsanforderungen erfüllen.